उत्पाद विवरण
1. टाइटेनियम लक्ष्य की परिभाषा और विशेषताएं
टाइटेनियम लक्ष्य मुख्य रूप से भौतिक वाष्प जमाव (PVD) और मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग तकनीक . में उपयोग किए जाने वाले विशिष्ट सामग्री हैं, इनमें से, PVD तकनीक का उपयोग व्यापक रूप से उन्नत कोटिंग्स के उत्पादन में किया जाता है, जबकि मैग्नेट्रॉन स्पटरिंग का उपयोग आमतौर पर अर्धचालक चिप्स के निर्माण में किया जाता है। टाइटेनियम मिश्र मुख्य घटक के रूप में . इसके अद्वितीय लाभों में अत्यधिक उच्च कठोरता और घनत्व, साथ ही उत्कृष्ट संक्षारण प्रतिरोध शामिल है, जो इसे विभिन्न प्रकार के वातावरणों में स्थिर बनाता है . इसके अलावा, टाइटेनियम लक्ष्यों में अच्छी थर्मल चालकता और उच्च शुद्धता है, जो पतली फिल्म के लिए उत्कृष्ट प्रदर्शन प्रदान करता है {{4} {4} {4} {4} {4} {4} {4}
टाइटेनियम लक्ष्य एक उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम या टाइटेनियम मिश्र धातु स्लैब सामग्री है जिसे वैक्यूम पिघलने से बनाया गया है - निवेश कास्टिंग प्रक्रिया . इसकी सबसे महत्वपूर्ण विशेषताएं उच्च शुद्धता और उत्कृष्ट घनत्व हैं . उच्च गुणवत्ता वाले टाइटेनियम लक्ष्य का घनत्व 99 {6} से अधिक हो सकता है। और अन्य तत्व 100 पीपीएम से कम हैं, जो भौतिक गुणों में टाइटेनियम लक्ष्य बनाते हैं और रासायनिक गुण साधारण औद्योगिक शुद्ध टाइटेनियम की तुलना में कहीं अधिक हैं।
इसके अलावा, टाइटेनियम लक्ष्य में उत्कृष्ट समरूपता है . तैयारी प्रक्रिया के दौरान, कई पिघलने और शमन उपचार का उपयोग टाइटेनियम लक्ष्य के संगठनात्मक समरूपता को प्रभावी ढंग से सुधारने के लिए किया जाता है . लक्ष्य की सतह चिकनी और साफ होती है, और आंतरिक संगठन को भी बारीक और ठीक-बारीक होती है। चालकता और छोटे थर्मल तनाव, ताकि दरारें पैदा करना आसान नहीं है, उच्च-शक्ति स्पटरिंग या आर्क वाष्पीकरण प्रक्रिया . का सामना कर सकता है, इसके अलावा, टाइटेनियम लक्ष्यों की उच्च यांत्रिक शक्ति प्रभावी रूप से उनके सेवा जीवन को बढ़ाती है और लक्ष्य हानि को कम करती है, इस प्रकार उनके समग्र प्रदर्शन और मान .} में सुधार करती है .}
2. टाइटेनियम लक्ष्य की तैयारी प्रक्रिया
कच्चे माल का चयन:चूंकि टाइटेनियम लक्ष्यों का उपयोग मुख्य रूप से कोटिंग प्रक्रिया में किया जाता है, इसलिए कच्चे माल के रूप में 99 . 99% शुद्ध टाइटेनियम ब्लॉक का चयन करना आम है . एक अच्छा कच्चा माल स्पष्ट रूप से दिखाने वाले दोषों से मुक्त होना चाहिए जैसे कि ऑक्सीकरण, अशुद्धियों, दरारें, {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {{3} {
गलन: पिघलने के चरण में, एक वैक्यूम आर्क पिघलने वाली भट्ठी का उपयोग टाइटेनियम कच्चे माल को 1,668 डिग्री सेल्सियस (टाइटेनियम के पिघलने बिंदु) से अधिक करने के लिए किया जाता है, जो कि गैसीय अशुद्धियों के मिश्रण को रोकने के लिए कच्चे माल . को पूरी तरह से पिघलाने के लिए, एक उच्च वैक्यूम पर्यावरण को रोकने के लिए, एक उच्च वैक्यूम वातावरण को बाहर ले जाने के लिए, एक उच्च वैक्यूम पर्यावरण {{ ।
फोर्जिंग:
इस चरण में, तरल टाइटेनियम को ठंडा और ठोस करने के लिए एक मोल्ड में डाला जाता है, और फिर एक हाइड्रोलिक प्रेस . का उपयोग करके एक समान बल के साथ दबाया जाता है, फोर्जिंग प्रक्रिया के दौरान, अक्सर हीटिंग और होल्डिंग स्टेप्स होते हैं क्योंकि एक निश्चित तापमान को सामग्री के लिए बनाए रखा जाना चाहिए .}
रफिंग:
इस स्तर पर, लक्ष्य को पहले लागू आकार और आकार . के लिए तैयार किया गया है
उष्मा उपचार:
ज्यादातर मामलों में, लक्ष्यों को गर्मी उपचार की आवश्यकता होती है, जैसे कि समाधान उपचार या एनीलिंग, कई घंटों के लिए 800-1000 डिग्री की सीमा में . इन उपचारों का उद्देश्य सामग्री के माइक्रोस्ट्रक्चर में सुधार करना और इसकी ताकत और क्रूरता को बढ़ाना है {{२}}} {{२}}}
सतह परिष्करण:
उपरोक्त उपचार के बाद, लक्ष्य को सतह परिष्करण से गुजरना होगा, जैसे कि पीसना और चमकाने के लिए {{०}} सबसे पहले, एक बड़ा क्षेत्र संभवतः अपघर्षक कागज के साथ जमीन है, और फिर अपघर्षक कागज की मोटाई धीरे -धीरे ठीक पीसने के लिए कम हो जाती है .
गुणवत्ता निरीक्षण:
इस स्तर पर, टाइटेनियम लक्ष्यों को गुणवत्ता की जाँच की एक श्रृंखला के अधीन किया जाता है, जिसमें यूटी माप (अल्ट्रासोनिक फ्लॉ डिटेक्शन), एक्सआरडी परीक्षा (एक्स-रे विवर्तन) शामिल हैं, संरचना की पुष्टि करने के लिए, और आईसीपी-एईएस या लेको विश्लेषण द्वारा रासायनिक शुद्धता का निर्धारण, दूसरों के बीच .}
मुक्केबाजी और शिपिंग:अंत में, टाइटेनियम लक्ष्य को धूल-मुक्त वातावरण में एनकैप्सुलेटेड करने की आवश्यकता होती है, आमतौर पर वैक्यूम पैकेजिंग का उपयोग करते हुए, उत्पाद की शुद्धता को बनाए रखने के लिए . उन्हें तब विशेष रूप से डिज़ाइन किए गए बक्से में रखा जाता है ताकि उत्पाद को परिवहन के दौरान क्षति से बचाया जा सके .}}.} {
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