टाइटेनियम लक्ष्य

टाइटेनियम लक्ष्य
विवरण:
उत्पाद का नाम: टाइटेनियम लक्ष्य
सामग्री: Gr2 टाइटेनियम मिश्र धातु
आकार: सपाट, बेलनाकार
आकार; मांग पर अनुकूलित
प्रक्रिया: वैक्यूम पिघलना
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विवरण
तकनीकी पैरामीटर
मुख्य तैयारी प्रक्रिया

टाइटेनियम लक्ष्य भौतिक वाष्प जमाव (पीवीडी) और मैग्नेट्रोन स्पटरिंग के लिए डिज़ाइन की गई कोर कोटिंग सामग्री हैं, जो उच्च अंत कोटिंग तैयारी, सेमीकंडक्टर चिप और सटीक इलेक्ट्रॉनिक घटक उत्पादन के लिए व्यापक रूप से उपयुक्त हैं, और उन्नत विनिर्माण, अर्धचालक, चिकित्सा और अन्य क्षेत्रों में अपरिहार्य प्रमुख बुनियादी सामग्री हैं।

 

कच्चे माल का चयन

टाइटेनियम लक्ष्य कच्चे माल के रूप में 99.99% उच्च शुद्धता वाले टाइटेनियम ब्लॉक से बने होते हैं, और सतह को ऑक्सीकरण, अशुद्धियों, दरारों और अन्य दोषों के बिना सख्ती से नियंत्रित किया जाता है, एक समान सामग्री और शुद्धता मानकों को सुनिश्चित किया जाता है, और स्रोत से कोटिंग और स्पटरिंग गुणवत्ता सुनिश्चित की जाती है।

 

वैक्यूम पिघलना

टाइटेनियम लक्ष्य एक वैक्यूम आर्क पिघलने वाली भट्टी को अपनाता है, जिसे कच्चे माल को पूरी तरह से पिघलाने के लिए 1668 डिग्री (टाइटेनियम पिघलने बिंदु) से ऊपर गर्म किया जाता है, और उच्च वैक्यूम वातावरण की पूरी प्रक्रिया गैस की अशुद्धियों को अलग करती है; विशेष परिदृश्यों में, सामग्री के ऑक्सीकरण को रोकने के लिए इसे आर्गन गैस जैसे सुरक्षात्मक वातावरण में संचालित किया जा सकता है।

 

परिशुद्धता फोर्जिंग

टाइटेनियम लक्ष्य को पिघले हुए टाइटेनियम तरल द्वारा डालने और बनाने के बाद, सामग्री की लचीलापन और संरचनात्मक घनत्व सुनिश्चित करने के लिए, तापमान नियंत्रण और गर्मी संरक्षण की पूरी प्रक्रिया के साथ, इसे हाइड्रोलिक प्रेस द्वारा समान रूप से जाली और दबाया जाता है।

 

कच्चा साँचा

उपकरण अनुकूलन की आवश्यकताओं को पूरा करने के लिए लक्ष्य आकार और आकार को सटीक रूप से आकार देने के लिए टाइटेनियम लक्ष्यों को सीएनसी खराद और मिलिंग मशीनों के माध्यम से मशीनीकृत किया जाता है।

 

गर्मी उपचार तीव्रता

माइक्रोस्ट्रक्चर संरचना को अनुकूलित करने और लक्ष्य की ताकत और क्रूरता में काफी सुधार करने के लिए टाइटेनियम लक्ष्यों को समाधान समाधान और 800-1000 डिग्री पर एनीलिंग जैसे गर्मी उपचार के अधीन किया गया था।

 

सतही परिष्करण

टाइटेनियम लक्ष्य को बहु-स्तरीय ग्राइंडिंग और बारीक पॉलिशिंग के साथ उपचारित किया जाता है, और सतह की फिनिश और सपाटता मानकों को पूरा करती है ताकि यह सुनिश्चित हो सके कि स्पटरिंग फिल्म एक समान और स्थिर है।

 

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उत्पाद की मुख्य विशेषताएं

उत्कृष्ट प्रदर्शन: उच्च घनत्व, उच्च गर्मी प्रतिरोध, स्थिर संरचना, जटिल और गंभीर कोटिंग और स्पटरिंग स्थितियों के अनुकूल हो सकता है।

रासायनिक स्थिरता: मजबूत संक्षारण प्रतिरोध, अच्छी रासायनिक जड़ता, लंबी सेवा जीवन, अच्छी कोटिंग स्थिरता।

उत्कृष्ट मूल्य: हालांकि कच्चे माल और प्रसंस्करण की लागत अधिक है, व्यापक प्रदर्शन अग्रणी है, और यह उच्च तकनीक क्षेत्र में एक अपूरणीय कुंजी है।

 

मुख्य अनुप्रयोग फ़ील्ड

    अर्धचालक क्षेत्र

चिप निर्माण के लिए मुख्य कच्चे माल में से एक, इसका उपयोग ट्रांजिस्टर और एकीकृत सर्किट जैसे प्रमुख घटकों की कोटिंग और प्रक्रिया प्रक्रियाओं के लिए किया जाता है।

   औद्योगिक क्षेत्र

इसका उपयोग उच्च {{0}अंत कार्यात्मक कोटिंग्स, विरोधी {{1}संक्षारण और घिसाव {2}प्रतिरोधी कोटिंग्स, ऑटोमोबाइल, सटीक विनिर्माण, उच्च अंत उपकरण और अन्य उद्योगों को कवर करने में किया जाता है।

    चिकित्सा क्षेत्र

इसमें उत्कृष्ट जैव अनुकूलता है और इसका उपयोग कृत्रिम जोड़ों और दंत प्रत्यारोपण जैसे चिकित्सा उपकरणों की सतह कोटिंग और मोल्डिंग प्रसंस्करण के लिए किया जा सकता है।

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अनुकूलन और सेवा

यह ग्राहकों की आवश्यकताओं के अनुसार अनुकूलित आपूर्ति का समर्थन करता है, और अनुसंधान एवं विकास, छोटे - बैच परीक्षण उत्पादन और बड़े पैमाने पर बड़े पैमाने पर उत्पादन की जरूरतों को पूरा करने के लिए शुद्धता, आकार, सहनशीलता और तकनीकी मानकों जैसी विस्तृत आवश्यकताओं के अनुसार तुरंत सटीक कोटेशन और कुशल वितरण प्रदान कर सकता है।

 

 

 

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